DIBS

Le "Dual Ion Beam Sputtering" (DIBS) est un système de revêtement de qualité industrielle permettant la création de filtres optiques avec une précision et une uniformité exceptionnelles. Cet appareil étant destiné aux applications très exigeantes (e.g. télécommunications), il permet un contrôle très fin des différents paramètres de dépôt. Grâce à l'utilisation simultanée de deux faisceaux d'ions, il est possible de contrôler de façon indépendante le taux de dépôt et les propriétés microstructurales des couches.

Pouvant y installer trois cibles différentes, une grande variété de matériaux s'offre à l'utilisateur. Les cibles métalliques permettent de déposer une couche métallique ou diélectrique en y insérant les gaz appropriés. Nous possédons présentement quatre cibles: silice, niobium, tantale et titane. Il est possible d'insérer jusqu'à neuf substrats dans la chambre de dépôt. Mentionnons que le tout est contrôlé par un logiciel d'exploitation permettant une automatisation presque complète du processus.

Plusieurs types de filtres interférentiels peuvent être fabriqués grâce à cet appareil.  Mentionnons, les filtres astronomiques, les filtres décoratifs, les dispositifs de sécurité, etc.

Caractéristiques du DIBS:

  • Matériaux actuellement possible de déposer: SiO2, Nb, Nb2O5, Ta et Ta2O5
  • Porte-substrat: diamètre de 30,5 cm ET vitesse de rotation jusqu'à 3000 rpm
  • Température du substrat : 25 à 250 °C  
  • Sources d'ions: 16 cm de diamètre pour le faisceau de pulvérisation et 12 cm de diamètre pour le faisceau d'assistance (mode RF et présence de neutraliseurs en cathode creuse)
  • Énergie des ions:  0 à 1500 eV
  • Gaz disponibles: Ar, He, O2 et N2

 

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